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Method for Measurement of Oxide Thickness on Silicon Wafers and Metallization Thickness by Multiple-Beam Interference (Tolansky Method) (Withdrawn 1993)
Automatische name übersetzung:
Verfahren zur Messung der Oxide Thickness auf Silizium-Wafern und Metallisierungsdicke von Vielstrahlinterferenz ( Tolansky Method) (Withdrawn 1993)
Bezeichnung normen: ASTM F388-84
Anmerkung: UNGÜLTIG
SKU: NS-55128
Zahl der Seiten: 6
Gewicht ca.: 18 g (0.04 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
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Letzte Aktualisierung: 2024-11-04 (Zahl der Positionen: 2 209 323)
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