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Test Method for Stacking Fault Density of Epitaxial Layers of Silicon by Interference-Contrast Microscopy (Withdrawn 1998)
Automatische name übersetzung:
Testverfahren für die Stapelfehlerdichte von epitaktischen Schichten aus Silizium durch Interferenzkontrast -Mikroskopie (Withdrawn 1998)
Bezeichnung normen: ASTM F522-94
Anmerkung: UNGÜLTIG
SKU: NS-55613
Zahl der Seiten: 4
Gewicht ca.: 12 g (0.03 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
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Letzte Aktualisierung: 2024-10-29 (Zahl der Positionen: 2 206 160)
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