Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
Semiconductor devices - Stress migration test standard - Part 1: Copper stress migration test standard
Name übersetzen
NORM herausgegeben am 1.6.2018
Bezeichnung normen: ČSN IEC 62880-1
Zeichen: 358796
Katalog-Nummer: 505107
Ausgabedatum normen: 1.6.2018
SKU: NS-848701
Zahl der Seiten: 32
Gewicht ca.: 96 g (0.21 Pfund)
Land: Tschechische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ČSN
Tato norma stanovuje metody stárnutí při stálé teplotě (izotermické) pro zkušební struktury pro měděné (Cu) pokovení na mikroelektronických křemíkových deskách pro stanovení náchylnosti na vytváření dutinek vytvořených namáháním (SIV). Tato metoda se používá při technologickém vývoji výroby na úrovni křemíkových desek a její výsledky slouží k předpovídání životnosti a analýze poruch. Za určitých podmínek je možno tuto metodu využít pro zkoušení pouzder. Metoda není určena pro kontrolu výrobních dávek před odesláním, protože doba zkoušení je dlouhá.
Dvojitě damaskované Cu metalizační systémy se obvykle skládají z tantalové (Ta) nebo tantalnitridové (TaN) výstelky, která je utvořena na dně, nebo bocích kanálku v dielektriku, který je vytvořen leptáním dielektrické podložky. Z toho důvodu mohou systémy, které se skládají ze samostatných průchozích kontaktů s širokou vodivou cestou pod nimi, pokud mají chybějící vodivou cestu pod průchodem, vykazovat přerušení stejně, jako to může způsobit procentuální změna odporu, která splňuje kritérium poruchy
Wollen Sie sich sicher sein, dass Sie nur die gültigen technischen Normen verwenden?
Wir bieten Ihnen eine Lösung, die Ihnen eine Monatsübersicht über die Aktualität der von Ihnen angewandten Normen sicher stellt.
Brauchen Sie mehr Informationen? Sehen Sie sich diese Seite an.
Letzte Aktualisierung: 2025-01-03 (Zahl der Positionen: 2 218 319)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.