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Testing of materials for semiconductor technology - Surface analysis of silicon wafers by multielement determination in aqueous analysis solutions using mass spectrometry with inductively coupled plasma (ICP-MS).
Automatische name übersetzung:
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Oberflächenanalyse von Silicium-Halbleiterscheiben (Wafer) durch Multielementbestimmung in wässrigen Analysenlösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS).
NORM herausgegeben am 1.10.2013
Bezeichnung normen: DIN 51456:2013-10
Ausgabedatum normen: 1.10.2013
SKU: NS-204698
Zahl der Seiten: 15
Gewicht ca.: 45 g (0.10 Pfund)
Land: Deutsche technische Norm
Kategorie: Technische Normen DIN
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Oberflächenanalyse von Silicium-Halbleiterscheiben (Wafer) durch Multielementbestimmung in wässrigen Analysenlösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS).
UNGÜLTIG
1.11.2009
1.9.1994
1.10.2002
1.6.2003
1.10.2001
1.1.2000
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Letzte Aktualisierung: 2024-12-19 (Zahl der Positionen: 2 216 019)
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