Die Norm IEC 62047-13-ed.1.0 28.2.2012 Ansicht

IEC 62047-13-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 13: Bend - and shear - type test methods of measuring adhesive strength for MEMS structures

Automatische name übersetzung:

Halbleiterbauelemente - Mikroelektromechanische Geräte - Teil 13: Bend - und Schertyp - Prüfverfahren zur Messung der Haftfestigkeit für die MEMS-Strukturen



NORM herausgegeben am 28.2.2012


Sprache
Realisierung
ZugänglichkeitAUF LAGER
Preis102.60 ohne MWS
102.60

Informationen über die Norm:

Bezeichnung normen: IEC 62047-13-ed.1.0
Ausgabedatum normen: 28.2.2012
SKU: NS-414101
Zahl der Seiten: 30
Gewicht ca.: 90 g (0.20 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen IEC

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Die Annotation des Normtextes IEC 62047-13-ed.1.0 :

IEC 62047-13:2012 specifies the adhesive testing method between micro-sized elements and a substrate using the columnar shape of the specimens. This international standard can be applied to adhesive strength measurement of microstructures, prepared on a substrate, with width and thickness of 1 µm to 1 mm, respectively. This standard specifies the adhesive testing method for micro-sized-elements in order to optimally select materials and processing conditions for MEMS devices. This standard does not particularly restrict test piece material, test piece size and performance of the measuring device, since the materials and size of MEMS device components range widely and testing machine for micro-sized materials has not been generalized. La CEI 62047-13:2012 specifie la methode dessai dadherence entre des elements microminiaturises et un substrat au moyen deprouvettes de forme en colonnes. La presente norme internationale peut etre appliquee a la mesure de la resistance dadherence des microstructures, preparees sur un substrat, dont la largeur et lepaisseur sont de 1 µm a 1 mm, respectivement. La presente norme specifie la methode dessai dadherence pour les elements microminiaturises, en vue dune selection optimale des materiaux et des conditions de traitement pour les dispositifs MEMS. La presente norme ne presente pas de restrictions particulieres relatives au materiau des eprouvettes dessai, a la taille de ces dernieres, ni a la performance du dispositif de mesure, etant donne que les materiaux et la taille des composants des dispositifs MEMS comportent une large gamme et que les machines dessais pour les materiaux microminiaturises nont pas ete generalisees.

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