Cookies
Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
IEC 62047-2-ed.1.0
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 2: Tensile testing method of thin film materials
Automatische name übersetzung:
Halbleiterbauelemente - Mikroelektromechanische Geräte - Teil 2: Zugversuch Methode der Dünnschichtmaterialien
NORM herausgegeben am 15.8.2006
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: IEC 62047-2-ed.1.0
Ausgabedatum normen: 15.8.2006
SKU: NS-414105
Zahl der Seiten: 25
Gewicht ca.: 75 g (0.17 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen IEC
Kategorie - ähnliche Normen:
Die Annotation des Normtextes IEC 62047-2-ed.1.0 :
Specifies the method for tensile testing of thin film materials with length and width under 1 mm and thickness under 10 m, which are main structural materials for micro-electromechanical systems (MEMS), micromachines and similar devices. The main structural materials for MEMS, micromachines and similar devices have special features such as typical dimensions in the order of a few microns, a material fabrication by deposition, and a test piece fabrication by non-mechanical machining using etching and photolithography. This International Standard specifies the testing method, which enables a guarantee of accuracy corresponding to the special features. Cette norme internationale specifie la methode pour les essais de traction des materiaux en couche mince d fune longueur et d fune largeur inferieure a 1 mm et d fune epaisseur inferieure a 10 Em, qui sont des materiaux structurels principaux pour les systemes microelectromecaniques (MEMS), micromachines et dispositifs analogues. Les materiaux structurels principaux pour les MEMS, les micromachines et autres dispositifs analogues comportent des caracteristiques speciales telles que des dimensions typiques de l fordre de quelques microns, une fabrication de materiau par depot, et une fabrication d feprouvettes d fessai par usinage non mecanique au moyen de la gravure et de la photolithographie. Cette norme internationale specifie la methode d fessai qui garantit une precision correspondant aux caracteristiques speciales.
Ähnliche Normen:
7.4.2009
25.5.2011
6.8.2010
8.8.2012
29.8.2006
28.8.2006
Empfehlungen:
EEviZak – alle Gesetze einschließlich ihrer Evidenz in einer Stelle
Bereitstellung von aktuellen Informationen über legislative Vorschriften in der Sammlung der Gesetze bis zum Jahr 1945.
Aktualisierung 2x pro Monat!
Brauchen Sie mehr Informationen? Sehen Sie sich diese Seite an.
