Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-8: Graphene - Sheet resistance: In-line four-point probe
Name übersetzen
NORM herausgegeben am 7.6.2023
Bezeichnung normen: IEC/TS 62607-6-8-ed.1.0
Ausgabedatum normen: 7.6.2023
SKU: NS-1145851
Zahl der Seiten: 22
Gewicht ca.: 66 g (0.15 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen IEC
IEC TS 62607-6-8:2023 establishes a method to determine the key control characteristic sheet resistance RS [measured in ohm per square (ohm/sq)], by the in-line four-point probe method, 4PP. The sheet resistance RS is derived by measurements of four-terminal electrical resistance performed on four electrodes placed on the surface of the planar sample. The measurement range for RS of the graphene samples with the method described in this document goes from 10-2 ohm/sq to 104 ohm/sq. The method is applicable for CVD graphene provided it is transferred to quartz substrates or other insulating materials (quartz, SiO2 on Si, as well as graphene grown from silicon carbide. The method is complementary to the van der Pauw method (IEC 62607-6-7) for what concerns the measurement of the sheet resistance and can be useful when it is not possible to reliably place contacts on the sample boundary.
Wollen Sie sich sicher sein, dass Sie nur die gültigen technischen Normen verwenden?
Wir bieten Ihnen eine Lösung, die Ihnen eine Monatsübersicht über die Aktualität der von Ihnen angewandten Normen sicher stellt.
Brauchen Sie mehr Informationen? Sehen Sie sich diese Seite an.
Letzte Aktualisierung: 2024-09-09 (Zahl der Positionen: 2 346 212)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.