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Standard Test Method for Residual Strain Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer
Automatische name übersetzung:
Standard Test Method for Residual Dehnungsmessungen von dünnen, reflektierenden Filme unter Verwendung eines optischen Interferometers
NORM herausgegeben am 1.11.2011
Bezeichnung normen: ASTM E2245-11
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 1.11.2011
SKU: NS-44782
Zahl der Seiten: 24
Gewicht ca.: 72 g (0.16 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
cantilevers, combined standard uncertainty, fixed-fixed beams, interferometry, length measurements, microelectromechanical systems, MEMS, polysilicon, residual strain, stiction, strain gradient, test structure, ICS Number Code 37.040.20 (Photographic paper, film and plates. Cartridges)
Significance and Use | ||||||||||
Residual strain measurements are an aid in the design and fabrication of MEMS devices. The value for residual strain is used in Young’modulus calculations. |
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1. Scope | ||||||||||
1.1 This test method covers a procedure for measuring the compressive residual strain in thin films. It applies only to films, such as found in microelectromechanical systems (MEMS) materials, which can be imaged using an interferometer. Measurements from fixed-fixed beams that are touching the underlying layer are not accepted. 1.2 This test method uses a non-contact optical interferometer with the capability of obtaining topographical 3-D data sets. It is performed in the laboratory. 1.3 This standard does not purport to address all of the safety concerns, if any, associated with its use. It is the responsibility of the user of this standard to establish appropriate safety and health practices and determine the applicability of regulatory limitations prior to use. |
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2. Referenced Documents | ||||||||||
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Letzte Aktualisierung: 2024-11-04 (Zahl der Positionen: 2 209 323)
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