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ASTM E2444-11(2018)
Standard Terminology Relating to Measurements Taken on Thin, Reflecting Films
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NORM herausgegeben am 1.5.2018
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ASTM E2444-11(2018)
Ausgabedatum normen: 1.5.2018
SKU: NS-848389
Zahl der Seiten: 2
Gewicht ca.: 6 g (0.01 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Kategorie - ähnliche Normen:
Electronics (Vocabularies)Mechanical structures for electronic equipment
Die Annotation des Normtextes ASTM E2444-11(2018) :
Keywords:
cantilevers, definitions, fixed-fixed beams, interferometry, length measurements, microelectromechanical systems, MEMS, polysilicon, residual strain, stiction, strain gradient, terminology, test structure,, ICS Number Code 01.040.31 (Electronics (Vocabularies)), 31.240 (Mechanical structures for electronic equipment)
Ergänzende Informationen
| 1. Scope | ||||||||
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1.1 This standard consists of terms and definitions pertaining to measurements taken on thin, reflecting films, such as found in microelectromechanical systems (MEMS) materials. In particular, the terms are related to the standards in Section 2, which were generated by Committee E08 on Fatigue and Fracture. Terminology E1823 Relating to Fatigue and Fracture Testing is applicable to this standard. 1.2 The terms are listed in alphabetical order. 1.3 This international standard was developed in accordance with internationally recognized principles on standardization established in the Decision on Principles for the Development of International Standards, Guides and Recommendations issued by the World Trade Organization Technical Barriers to Trade (TBT) Committee. |
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| 2. Referenced Documents | ||||||||
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